除泡光刻胶,导电光刻胶生产厂家,双层光刻胶供应商
nr9-3000py 负性光刻胶
负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线365 nm---,可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻
和接触式光刻等工具。
显影之后,nr9-3000py 展现出一种倒梯形侧壁,这可以方便地作单纯的lift-off 处理。
nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势:
- 优异的分辨率性能
- 快速地显影
- 可以通过调节---能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度
- 耐受温度100℃
- 室温储存保质期长达3 年
lift-off工---
應用領域:leds,oleds,displays,mems,packaging,biochips。
濕法蝕刻,nr26 25000p光刻胶厂家,鍍 干法蝕刻rie/ion milling/ion implantation
附着力好temperature resistance = 100°c 耐高溫temperature resistance = 180°c
resist thickness nr9-3000py 负性光刻胶
负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线365
nm---,可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻
和接触式光刻等工具。
显影之后,nr9-3000py 展现出一种倒梯形侧壁,这可以方便地作单纯的lift-off 处理。
按感光树脂的化学结构,光刻胶可分为光聚合型光刻胶、光分解型光刻胶和光交联型光刻胶。在应用中,采用不同单体可以形成正、负图案,并可在光刻过程中改变材料溶解性、抗蚀性等。
光聚合型光刻胶
烯类,在光作用下生成自由基,nr26 25000p光刻胶,自由基再进一步引发单体聚合。
光分解型光刻胶
---醌类化合物,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性。
光交联型光刻胶
---月桂酸酯,在光的作用下,分子中的双键打开,链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构从而起到抗蚀作用。
按---波长,光刻胶可分为紫外300~450 nm光刻胶、深紫外160~280 nm光刻胶、极紫外euv,13.5 nm光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、x 射线光刻胶等。
按应用领域,光刻胶可分为pcb 光刻胶、lcd 光刻胶、半导体光刻胶等。pcb 光刻胶技术壁垒相对其他两类较低,而半导体光刻胶代表着光刻胶技术的水平。
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